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微弧氧化處理常見問題及解決方案——合肥華清表面處理

發(fā)布日期:2025-07-30 瀏覽次數(shù):10

航空航天、新能源汽車、3C電子等產(chǎn)業(yè)正掀起一場“減重革命”,鎂合金憑借密度僅為鋁合金的2/3、比強(qiáng)度卻高出30%的先天優(yōu)勢,成為輕量化的首選材料。然而,鎂合金化學(xué)性質(zhì)活潑,極易腐蝕,一塊未經(jīng)處理的鎂合金零部件在潮濕環(huán)境中短短數(shù)周就可能粉化失效。而微弧氧化技術(shù)則恰好能解決鎂合金腐蝕問題,大大推動了鎂合金的應(yīng)用與發(fā)展。

微弧氧化(又稱等離子電解氧化)通過在電解液中施加高壓電流,使鎂合金表面產(chǎn)生微區(qū)放電,瞬間高溫(可達(dá)2000℃以上)促使表面原位生長出一層陶瓷氧化膜。這層膜具備卓越的耐磨性、耐蝕性和絕緣性。


微弧氧化雖性能好,但是也存在一些弊端。該技術(shù)產(chǎn)業(yè)化中常遇三大難題:


局部燒蝕:電流密度過高或電解液分散不均時,工件表面會產(chǎn)生劇烈火花,形成肉眼可見的電蝕坑,嚴(yán)重時直接燒穿基體。例如使用硅酸鈉+氫氧化鉀電解液時,電流超過5A/dm2即可能引發(fā)持續(xù)燒蝕。


顏色單一:傳統(tǒng)堿性電解液僅能生成灰白色涂層,難以滿足消費(fèi)電子產(chǎn)品的多彩美學(xué)需求,也無法實現(xiàn)航天器件所需的黑色熱控功能。


孔隙率高:常規(guī)工藝形成的膜層孔隙尺寸達(dá)10–15微米,腐蝕介質(zhì)易滲入,必須額外封孔處理。


華清高科:微弧氧化智能化產(chǎn)線解決難題


合肥華清高科表面技術(shù)股份有限公司,作為表面處理國家標(biāo)準(zhǔn)制定單位及行業(yè)前十強(qiáng)企業(yè),其微弧氧化智能化產(chǎn)線已實現(xiàn)三大升級:

微弧氧化(又稱等離子電解氧化)通過在電解液中施加高壓電流,使鎂合金表面產(chǎn)生微區(qū)放電,瞬間高溫(可達(dá)2000℃以上)促使表面原位生長出一層陶瓷氧化膜。這層膜具備卓越的耐磨性、耐蝕性和絕緣性。


微弧氧化雖性能好,但是也存在一些弊端。該技術(shù)產(chǎn)業(yè)化中常遇三大難題:


局部燒蝕:電流密度過高或電解液分散不均時,工件表面會產(chǎn)生劇烈火花,形成肉眼可見的電蝕坑,嚴(yán)重時直接燒穿基體。例如使用硅酸鈉+氫氧化鉀電解液時,電流超過5A/dm2即可能引發(fā)持續(xù)燒蝕。


顏色單一:傳統(tǒng)堿性電解液僅能生成灰白色涂層,難以滿足消費(fèi)電子產(chǎn)品的多彩美學(xué)需求,也無法實現(xiàn)航天器件所需的黑色熱控功能。


孔隙率高:常規(guī)工藝形成的膜層孔隙尺寸達(dá)10–15微米,腐蝕介質(zhì)易滲入,必須額外封孔處理。


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